鍍膜方式：直流磁控濺射、三靶或多靶磁控濺射鍍膜、射頻/直流磁控濺射+蒸發，制膜種類： 金屬膜、粉體顆粒膜、反應膜、磁性膜、介質膜、氧化膜、有機膜。電源型式：3000W雙極脈沖電源、1000W電磁靶電源、2000W雙極脈沖源、1000W射頻電源、1500W恒流源。只使用直流電源，電子方向始終統一，會導致單一種類電荷堆積過高與控制源中和。也就是說用來提供動力的正負極被中和了，然后磁控濺射將不再繼續，所以采用脈沖電源。

  電源規格：最大電壓：0-300V,0-500V,0-600V,0-700V…0-10000V

最大電流：0-10A,0-20A,0-30A,0-50A,…0-20000A
   基本參數如下：

輸入電壓 220V50Hz
   輸出電流 0-固定電流可調
   輸出電壓 0-固定電壓可調
   穩壓精度(%) 〈1%
   穩流精度(%) 〈1%
   過載能力(%) 110%
   整機效率 ≥90%
   功率因數 >0.95

絕緣阻抗 ≥5MΩ
   冷卻方式 風冷或水冷皆可
   工作限度 可滿負荷操作
   對電網干擾 小,易消除

保護功能 過壓、欠壓、過熱、過流

工作環境 0~40℃  濕度〈95%