鍍膜方式：直流磁控濺射、三靶或多靶磁控濺射鍍膜、射頻/直流磁控濺射+蒸發(fā)，制膜種類(lèi)： 金屬膜、粉體顆粒膜、反應(yīng)膜、磁性膜、介質(zhì)膜、氧化膜、有機(jī)膜。電源型式：3000W雙極脈沖電源、1000W電磁靶電源、2000W雙極脈沖源、1000W射頻電源、1500W恒流源。只使用直流電源，電子方向始終統(tǒng)一，會(huì)導(dǎo)致單一種類(lèi)電荷堆積過(guò)高與控制源中和。也就是說(shuō)用來(lái)提供動(dòng)力的正負(fù)極被中和了，然后磁控濺射將不再繼續(xù)，所以采用脈沖電源。

  電源規(guī)格：最大電壓：0-300V,0-500V,0-600V,0-700V…0-10000V

最大電流：0-10A,0-20A,0-30A,0-50A,…0-20000A
   基本參數(shù)如下：

輸入電壓 220V50Hz
   輸出電流 0-固定電流可調(diào)
   輸出電壓 0-固定電壓可調(diào)
   穩(wěn)壓精度(%) 〈1%
   穩(wěn)流精度(%) 〈1%
   過(guò)載能力(%) 110%
   整機(jī)效率 ≥90%
   功率因數(shù) >0.95

絕緣阻抗 ≥5MΩ
   冷卻方式 風(fēng)冷或水冷皆可
   工作限度 可滿負(fù)荷操作
   對(duì)電網(wǎng)干擾 小,易消除

保護(hù)功能 過(guò)壓、欠壓、過(guò)熱、過(guò)流

工作環(huán)境 0~40℃  濕度〈95